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Moorfield臺(tái)式二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH，采用準(zhǔn)確控制技術(shù)，為石墨烯和2D材料的研究提供高精度的加工刻蝕。

Moorfield近推出了臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD，高度集成化的高真空高性能臺(tái)式PVD系統(tǒng)。越、高效的性能適用于眾多薄膜的研究工作。

Moorfield與學(xué)術(shù)界緊密合作研發(fā)的臺(tái)式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列可以用來(lái)快速生產(chǎn)高質(zhì)量的石墨烯用于學(xué)術(shù)和應(yīng)用研究。

日本ADVANCE RIKO公司致力于電弧等離子體沉積系統(tǒng)（APD）用脈沖電弧放電將電導(dǎo)材料離子化，產(chǎn)生高能離子并沉積在基底上，制備納米薄膜鍍層或納米顆粒。

脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)（NEW）等由美國(guó)BlueWave生產(chǎn)，可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、反應(yīng)濺射、熱絲化學(xué)氣相沉積（HFCVD）、熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（TCVD）等設(shè)備。

薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術(shù)現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、太陽(yáng)能等域的研發(fā)以及成產(chǎn)當(dāng)中，這些技術(shù)包括： 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器（PECVD Reactors） 脈沖激光沉積系統(tǒng)（Pulsed Laser Deposition） 磁控濺射系統(tǒng)（Sputter Deposition System） 電子束沉積系統(tǒng)（E-beam Deposition System）