臺式精準氣氛壓力控制高溫退火系統(tǒng)ANNEAL

    臺式精準氣氛壓力控制高溫退火系統(tǒng)ANNEAL可用于二維材料以及襯底、樣品在定氛圍中的高精度熱處理，也可用于其他有高精度熱處理要求的方向。Moorfield Nanotechnology將樣品、襯底等材料的熱處理上升到與納米材料的制備同樣的技術高度。通過精準的真空度與氣氛控制以及高精度的溫度控制使樣品的熱處理過程變得和樣品的制備過程樣高度可控。西班牙光子科學研究所、英國國家物理實驗室、曼徹斯大學等用戶對該設備的性能都給與了高度的評價。

    ANNEAL有強大的真空、氣氛控自動制系統(tǒng)，從高真空到各種氣氛都可以高精度自動控制。ANNEAL可實現Ar, O₂, N₂，H₂等多種氣體高精度的流量控制。ANNEAL有多種加熱方案滿足對不同溫度的需求。完備的安全設計方案與*的尾氣稀釋方案可以確保即使是在氫氣氣氛下退火也可以輕松掌控。系統(tǒng)配備的觸屏式自動控制系統(tǒng)滿足退火程序的設定與存儲。