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PRODUCTS CNTER當前位置:首頁產(chǎn)品中心材料制備/樣品合成爐子(燒結爐、電弧爐等)APF 0925-MM美國Thermal Technology自動熱處理爐
美國Thermal Technology自動熱處理爐/陶瓷熱處理爐,全自動、無人值守操作,Z高可定制溫度達2500℃。工件熱處理循環(huán)時升溫速率>100℃/min,降溫速率可達300℃/min
產(chǎn)品分類
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美國Thermal Technology自動熱處理爐(APF Automatic Processing Furnace systems)與陶瓷熱處理爐(CPF Ceramic Processing Furnace systems)可實現(xiàn)全自動、無人值守操作,可定制溫度達2500℃。工件熱處理循環(huán)時升溫速率>100℃/min,降溫速率可達300℃/min。氫氣爐/高真空爐可選。可在爐頂與爐底裝備加熱器,整個熱區(qū)的溫度均勻性*。
美國Thermal Technology的APF與CPF系列爐具適于對高純度的進陶瓷材料進行熱處理,避免了其對傳統(tǒng)石墨爐污染的敏感性。APF與CPF的高真空和高溫使其也適于難熔金屬的加工。不含真空泵的APF與CPF可以通入惰性或還原性氣氛。
系統(tǒng)組成:真空腔,金屬熱區(qū),電源,真空泵,可編程控制系統(tǒng);可定制升。 系統(tǒng)的熱區(qū)可在多種環(huán)境內(nèi)工作:濕/干氫氣、離解干氨、惰性氣體、氮氣、真空等。加熱體根據(jù)不同的工作溫度使用鉬片、鉬網(wǎng)、鎢網(wǎng)等,表面積大,可提高工作區(qū)的溫度均勻性。多種產(chǎn)量、溫度、處理能力可選,滿足您的多種需求。 |
APF與CPF系列產(chǎn)品點
* 好的溫度均勻性 * 快速的循環(huán)時間 * 編程與控制 * 處理進程序列控制 * 易于裝料 * 自動處理 * 性能穩(wěn)定 * 可同時作為高溫真空爐 | * 溫度高達2500°C * 快速的熱響應 * 露點檢測與控制 * 濕/干 氫氣氛 * 對參數(shù)變化的快速響應 * 多種尺寸、產(chǎn)能可選 * 可供燒金屬化陶瓷 * 控制氣氛防護 |
加熱體 | 輻射屏蔽 | 溫度可達 | 常規(guī)溫度 |
鎢 | 鎢&鉬 | 2500°C | 2200°C |
鉬 | 鉬&不銹鋼 | 1700°C | 1600°C |
設備型號
APF 0925-MM | APF 2036-WW |
CPF 121212W-WW | APF 0716-MS |
立式真空爐
THERMAL TECHNOLOGY全自動立式真空爐采用圓柱形加熱體,在低功率下可以控制形成均的溫度,因此能延長加熱體的壽命。多重輻射罩在節(jié)省能量的同時也可以保護工作環(huán)境、加快熱循環(huán)速度。熱區(qū)設計有助于延長在高工作溫度下的壽命。
立式的APF/CPF爐具采用冷壁設計,具有輻射防護。頂部/底部裝卸與鐘罩升降等批量處理爐可選。爐體的雙層爐壁與不銹鋼爐腔由液壓驅(qū)動升離底盤與爐床,便于裝卸工件與設備。采用新的微處理器控制系統(tǒng),可實現(xiàn)數(shù)字化溫度控制與處理序列,每次可以存入超過50條處理程序。程序輸入方便,并可以在操作過程中進行實時修改。
裝完工件,設置程序處理序列后,所有操作*自動,操作完成后系統(tǒng)會發(fā)出信號提示。
型號 | 工作區(qū)尺寸 | 工作區(qū)容量 | 處理量 |
APF-0716 | Ф 6” x 12“ | 0.2 立方英尺 | 40 磅 |
APF-0925 | Ф 8” x 16” | 0.5 立方英尺 | 75 磅 |
APF-1230 | Ф 10” x 20” | 0.9 立方英尺 | 150 磅 |
APF-1836 | Ф 15”x 28” | 3.1 立方英尺 | 500 磅 |
APF-2444 | Ф 20”x 36” | 6.5 立方英尺 | 1000 磅 |
APF-3060 | Ф 24”x 48” | 12.6 立方英尺 | 1500 磅 |
APF-4060-MS | Ф 36" x 48" | 17.2 立方英尺 | 1500 磅 |
CPF-0716-MS | Ф 4”x 10” | 0.1 立方英尺 | 40 磅 |
CPF-0925-MS | Ф 5.5”x 14” | 0.2 立方英尺 | 75 磅 |
CPF-1230-MS | Ф 8.5”x 16” | 0.5 立方英尺 | 150 磅 |
CPF-1836-MS | Ф 12.5”x 20” | 1.4 立方英尺 | 500 磅 |
CPF-2444-MS | Ф 17.5”x 24” | 3.3 立方英尺 | 1000 磅 |
CPF-3060-MS | Ф 21.0”x 36” | 7.2 立方英尺 | 1500 磅 |
Top | 5Фx 10 | 0.1 | 612 |
Top | 10Фx 14 | 0.6 | 1218 |
Bottom | 13Фx 18 | 1.4 | 1624 |
臥式真空爐
臥式真空爐采用網(wǎng)狀加熱體,低功率下可以控制形成均的溫度,因此能延長加熱體的壽命。多重輻射罩在節(jié)省能量的同時也可以保護工作環(huán)境、加快熱循環(huán)速度。熱區(qū)設計有助于延長在高工作溫度下的壽命。臥式真空爐多可配備6個立熱區(qū),可實現(xiàn)好的溫度均勻性。
臥式的APF/CPF爐具采用冷壁設計,具有輻射防護,均為前部裝卸的批量處理爐。爐體的雙層爐壁與不銹鋼爐腔前部留有裝料口。采用新的微處理器控制系統(tǒng),可實現(xiàn)數(shù)字化溫度控制與處理序列,每次可以存入超過50條處理程序。程序輸入方便,并可以在操作過程中進行實時修改。
裝完工件,設置程序處理序列后,所有操作*自動,操作完成后系統(tǒng)會發(fā)出信號提示。
裝料方式 | 工作區(qū)尺寸 (英寸) | 工作區(qū)容量(立方英尺) | 型號 |
前部 | 12 x 12 x 12 | 1.0 | 121212 |
前部 | 12 x 12 x 24 | 2.0 | 121224 |
前部 | 16 x 16 x 32 | 4.8 | 161632 |
前部 | 16 x 16 x 48 | 7.0 | 161648 |
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Ti Reactive Sintering of Electrically Conductive Al2O3–TiN Composite: Influence of Ti Particle Size and Morphology on Electrical and Mechanical Properties, Materials 2017, 10, 1348.
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