Moorfield Nanotechnology公司是英國著名儀器研發(fā)公司，成立28年來專注于高質(zhì)量的薄膜生長與加工技術(shù)，擁有雄厚的技術(shù)實(shí)力，推出的多種高性能設(shè)備受到科研與工業(yè)領(lǐng)域的廣泛好評。Moorfield公司根據(jù)材料研究領(lǐng)域的需求，推出了一系列高精度薄膜制備與加工系產(chǎn)品。產(chǎn)品涵蓋了薄膜制備（電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、磁控濺射）、熱處理、等離子刻蝕等多個(gè)薄膜材料研究的環(huán)節(jié)。Moorfield Nanotechnology功能強(qiáng)大的落地式設(shè)備可以滿足多種科研與生產(chǎn)的需求。近年來更是推出了體積小巧的臺式設(shè)備，性能可以和大型設(shè)備相媲美，更加節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間，實(shí)驗(yàn)更加高效。

在與Quantum Design中國子公司正式合作進(jìn)入中國市場的短短三年內(nèi)已交付使用超過二十套設(shè)備。用戶包含清華大學(xué)、浙江大學(xué)、西湖大學(xué)、大連理工大學(xué)、國家電網(wǎng)、中國科學(xué)院深圳先進(jìn)技術(shù)研究院……等著名高校、國企、科研院所以及半導(dǎo)體行業(yè)的上市公司?？缛?024年，將有更多的設(shè)備交付于復(fù)旦大學(xué)、遼寧材料實(shí)驗(yàn)室等單位。

      Moorfield Nanotechnology傾力打造的一款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統(tǒng)。該系統(tǒng)雖然體積小巧，但是功能出色、配置齊全。該型號的推出是為了解決傳統(tǒng)臺式設(shè)備功能簡單不能滿足學(xué)術(shù)研究的問題。

? nanoPVD-S10A磁控濺射系統(tǒng)：最多三靶位，可實(shí)現(xiàn)直流、射頻濺射，共濺射，可通Ar、O₂、N₂氣，樣品臺可加熱，最大支持8英寸樣品，包含晶振膜厚標(biāo)定系統(tǒng)，生長過程高精度氛圍控制，觸屏自動(dòng)化控制系統(tǒng)，自動(dòng)安全鎖。

? nanoPVD-T15A熱蒸發(fā)系統(tǒng)：可實(shí)現(xiàn)金屬熱蒸發(fā)，有機(jī)物低溫?zé)嵴舭l(fā)，配置靈活，包含晶振膜厚標(biāo)定系統(tǒng)，生長過程高精度氛圍控制，觸屏自動(dòng)化控制系統(tǒng)，自動(dòng)安全鎖。

? nanoPVD-ST15A濺射&熱蒸發(fā)系統(tǒng)：磁控濺射和熱蒸發(fā)在同一系統(tǒng)中靈活配置。滿足不同需求。

臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD-ST15A

臺式超精準(zhǔn)二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH

      石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度，而目前成熟的傳統(tǒng)半導(dǎo)體刻蝕系統(tǒng)在面對單層材料的高精度刻蝕需求時(shí)顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的等離子刻蝕系統(tǒng)功率較大、導(dǎo)致二維材料器件性能被破壞的問題。Moorfield Nanotechnology與曼徹斯特大學(xué)諾獎(jiǎng)得主Andre Geim課題組聯(lián)合研發(fā)了臺式超精準(zhǔn)二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)- nanoETCH。

? 30W 高精度射頻源，控制精度達(dá)到10 mW

? MFC流量計(jì)精準(zhǔn)控制刻蝕氣壓

? 3英寸、4英寸、6英寸樣品臺

? 全自動(dòng)觸屏操作系統(tǒng)

? 設(shè)定、保存多個(gè)刻蝕程序

? O₂、氟化物氣體選項(xiàng)可對二維材料、傳統(tǒng)硅基材料等進(jìn)行反應(yīng)刻蝕。

臺式超精準(zhǔn)二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH

臺式精準(zhǔn)氣氛\壓力控制高溫退火系統(tǒng)—ANNEAL

      Moorfield Nanotechnology專門為制備高質(zhì)量的樣品而推出的臺式精準(zhǔn)氣氛\壓力控制高溫退火系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以滿足從高真空到各種氣氛的退火需求。對氣壓和溫度都能進(jìn)行高精度控制，該系統(tǒng)不僅僅是普通的退火系統(tǒng)更是二維材料、基片等進(jìn)行精確可控?zé)崽幚淼闹匾Ｕ?。該系統(tǒng)突破了傳統(tǒng)箱式、管式爐的粗放退火方式，開創(chuàng)了高精度退火的新篇章。

? 石英燈加熱：溫度高600℃，可兼容4英寸、6英寸樣品臺，可兼容多數(shù)氣氛。

? CCC碳化物加熱：500℃以上需求的常選方案，溫度可達(dá)1000℃，適用于非氧氣環(huán)境。

? SiC保護(hù)的碳材料加熱：兼容氧氣氛圍與多數(shù)氣體氛圍的增強(qiáng)型加熱材料。

? 兼容惰性氣體、氧氣、氫氣等多種氣氛，具有自動(dòng)尾氣稀釋方案。

臺式精準(zhǔn)氣氛\壓力控制高溫退火系統(tǒng)—ANNEAL

高精度薄膜制備與加工系統(tǒng)-MiniLab

      高精度薄膜制備與加工系統(tǒng) - MiniLab是英國Moorfield Nanotechnology公司經(jīng)過多年技術(shù)積累與改進(jìn)的旗艦型系列產(chǎn)品。MiniLab系列產(chǎn)品的定位是配置靈活、模塊化設(shè)計(jì)的PVD系統(tǒng)，可用于高質(zhì)量的科學(xué)研究和中試生產(chǎn)。

? 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫?zé)嵴舭l(fā)(有機(jī)物)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射

? 多種生長方式可集成于同一系統(tǒng)

? 系統(tǒng)可與手套箱集成，用于特殊材料的生長制備

? 可集成等離子樣品清洗功能

? 多種配置和靈活選擇