年度的諾貝爾獎又要在十月揭曉了?？v覽歷年的諾貝爾物理學獎我們不難發(fā)現(xiàn)，很多新材料、新性質(zhì)的發(fā)現(xiàn)都給我們的科研生活留下了濃墨重彩的筆。

、諾獎趣事

    要說得諾獎，更多得靠上天的眷顧，讓科學家有神奇的想法和創(chuàng)意去登上科學的。不過有位諾貝爾物理學獎得主的經(jīng)歷更是傳奇的離譜。你還記得那個磁懸浮青蛙的實驗嗎？沒錯，憑借磁懸浮青蛙，安德烈·海姆獲得了2000年的搞笑諾貝爾物理學獎，并且他親自去參加了頒獎儀式（可以自行了解，可不是每個人都敢去這個搞笑諾獎的哦）。經(jīng)過這次另類獎項的“洗禮”，他在稀奇古怪的道路上越走越遠，有次他偶然用膠帶粘出了單層的石墨——“石墨烯”。2010年他憑借制備出石墨烯并測量了石墨烯的物理性質(zhì)而獲得真正的諾貝爾物理學獎。就這樣安德烈·海姆成為了擁有“雙料”諾獎的“逗”科學家。石墨烯的發(fā)現(xiàn)也對物理學的發(fā)展起到了巨大的推動作用。很多基本的物理理論在石墨烯中得到了驗證、石墨烯的殊性質(zhì)促進了新型器件的發(fā)展、受到石墨烯的啟發(fā)科學家制備出了更多種類的二維材料，可見石墨烯的發(fā)現(xiàn)意義非凡。雖然得諾獎的人鳳毛麟角，對普通的科研工作者而言搞不定諾獎是正常的，但是現(xiàn)在我們可以讓您輕松搞定諾獎的材料。

二、石墨烯制備的進方案

    從初的石墨剝離方法（膠帶粘貼）到化學氣相沉積方法（CVD），石墨烯的制備手段直備受關注。經(jīng)過十年的發(fā)展，CVD方法已成為*的有市場前景的石墨烯制備方案。英國Moorfield是家注于高質(zhì)量的薄膜生長與加工技術的研發(fā)公司，常年來與曼徹斯大學安德烈·海姆課題組等多個科研團隊都有重要的合作，并為他們提供高性能的科研設備，其中臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列—nanoCVD便是典型代表。與諾獎團隊的長期合作使得該系列產(chǎn)品在制備石墨烯等碳基納米材料方面具有不可比擬的勢。該系列產(chǎn)品操作簡便，生長條件控制準確，生長迅速、制備出的樣品具有高質(zhì)量、高可重復性。30分鐘內(nèi)搞定高質(zhì)量石墨烯生長，nanoCVD可能是有的非?？斓氖┥L設備！

    日前，Quantum Design 中國子公司與英國Moorfield公司正式合作，作為中國的du家代理和戰(zhàn)略合作伙伴，將為中國用戶提供高性能的設備與質(zhì)的服務。

臺式高性能CVD石墨烯快速制備系統(tǒng)—nanoCVD 8G

三、其他薄膜制備與加工手段的代表設備

    除了石墨烯制備設備，英國Moorfield公司還推出了系列高性能的薄膜制備與加工設備，例如磁控濺射、熱蒸發(fā)、等離子刻蝕、高精度熱處理等。

    臺式高質(zhì)量多功能薄膜磁控濺射系統(tǒng)— nanoPVD S10A是Moorfield傾力打造的款高度集成化、智能化的臺式磁控濺射系統(tǒng)。該系統(tǒng)雖然體積小巧，但是功能出色、配置齊全。nanoPVD S10A多可安裝3個水冷式濺射源，可實現(xiàn)高功率持續(xù)運行，靶材尺寸與大型系統(tǒng)樣是行業(yè)通用尺寸。系統(tǒng)多可同時控制3路氣體，可以實現(xiàn)大型設備才有的共濺射和反應濺射方案。劍橋大學、諾森比亞大學、帝國理工學院等用戶都對這款臺式設備給予了很高的評價。

臺式高質(zhì)量多功能薄膜磁控濺射系統(tǒng)—nanoPVD S10A

    臺式高質(zhì)量金屬\有機物熱蒸發(fā)系統(tǒng) - nanoPVD T15A是Moorfield推出的 nanoPVD系列中新的型號，高腔體設計方案為熱蒸發(fā)而設計，確保薄膜均勻度。系統(tǒng)可以配備低溫蒸發(fā)(LTE)和標準電阻蒸發(fā)源，分別用于沉積有機物和金屬薄膜。低熱容有機物蒸發(fā)源具有高精度的控制電源，可以準確的控制蒸發(fā)條件，制備高質(zhì)量的有機物薄膜。金屬源采用盒式屏蔽模式，可以有效的減少交叉污染等問題。智能的控制系統(tǒng)和靈活的配置方案使PVD-T15A廣泛應用于材料研究域。劍橋大學、巴斯大學、?？巳髮W、倫敦瑪麗女王大學等都是該設備的用戶。

臺式高質(zhì)量金屬\有機物熱蒸發(fā)系統(tǒng) - nanoPVD T15A

    臺式超準二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH是與曼徹斯大學諾獎得主Andre Geim課題組聯(lián)合研發(fā)的可用于二維材料高精度刻蝕的等離子軟刻蝕系統(tǒng)。與傳統(tǒng)的刻蝕方案相比，nanoETCH在石墨烯和2D材料的關鍵加工中表現(xiàn)出了很高的性能。該系統(tǒng)對輸出功率的分辨率可到達毫瓦量，可實現(xiàn)對二維材料的超準逐層刻蝕，也可實現(xiàn)對二維材料進行層內(nèi)缺陷制造，還可對石墨等基材進行表面處理。該系統(tǒng)性能已經(jīng)在劍橋大學石墨烯中心、曼徹斯大學、英國國家石墨烯中心、西班牙光子科學研究所等諸多用戶實驗室得到驗證。

臺式超準二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH

    臺式氣氛\壓力控制高溫退火系統(tǒng)—ANNEAL可用于二維材料以及襯底在定氛圍中的高精度熱處理，也可用于其他有高精度熱處理要求的方向。英國Moorfield 公司將樣品、襯底等材料的熱處理上升到與納米材料的制備同樣的技術高度。通過準確的真空度與氣氛控制以及高精度的溫度控制使樣品的熱處理過程變得和樣品的制備過程樣高度可控。西班牙光子科學研究所、英國國家物理實驗室、曼徹斯大學等用戶對該設備的性能贊譽有加。

臺式氣氛\壓力控制高溫退火系統(tǒng)—ANNEAL

    多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM是為SEM、TEM樣品的表面導電處理以及普通樣品的高質(zhì)量電生長而設計的金屬濺射系統(tǒng)。系統(tǒng)可配備SEM樣品托、TEM樣品網(wǎng)、普通薄膜樣品等多種樣品臺。雖然該系統(tǒng)主要為濺射導電金屬而設計，但是該設備的性能已經(jīng)達到了高質(zhì)量薄膜樣品的制備標準。通過選擇不同的配置可以兼顧樣品的表面導電處理、電制備與學術研究型薄膜樣品的制備。

多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM

四、落戶中國

    在正式向中國客戶提供設備和服務的短短數(shù)月時間內(nèi)我們便收到了諸多咨詢，設備的性能更是受到了國內(nèi)諸多單位的認可。目前*套臺式高質(zhì)量多功能薄膜磁控濺射系統(tǒng) - nanoPVD S10A訂單已落戶寧波大學。*套臺式超準二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH即將在中國科學院上海技術物理研究所安裝。我們希望更多的臺式高精度薄膜制備與加工系統(tǒng)能夠落戶中國，讓國內(nèi)的科研工作者制備出更好的樣品！